Speziell für die Rasternahfeldmikroskopie
wurde ein Prozess entwickelt, der die Herstellung von Strukturen
mit optischem Kontrast ohne Topografie ermöglicht.
Testprobe für
optische Rasternahfeldmikroskopie (SNOM)
Die für die Rasternahfeldmikroskopie entwickelte Testprobe
besitzt ein in Siliziumnitrid eingebettetes Gitter aus Wolframsilizid.
Bei einer Höhe der Gitterstege von über 100 nm beträgt die
Resttopografie zwischen den beiden Materialien unter 5 nm.
